首頁 » Blog » EBL 光刻技術突破 Zyvex 成功挑戰 0.7nm 製程 – ezone.hk – 科技焦點 – 電腦 科技新聞 EBL 光刻技術突破 Zyvex 成功挑戰 0.7nm 製程 – ezone.hk – 科技焦點 – 電腦 23 9 月, 2022 0 Views 0 目前大家最常聽到的晶片製程都是 5nm 及剛剛量產的 3nm，不過世上最先進的晶片製程，其實已經遠超此水平，美國的 Zyvex 公司剛剛便發佈 0.7nm 的光刻機。 現時市面上使用各式各樣晶片的製品 ezone.hk 即時科技生活新聞 Read More
